• 半導體企業用超純水管道清洗

    隨著電子工業的飛速發展,半導體行業對芯片的性能要求越來越高。半導體企業為了保證能生產出具有優異性能的超大規模集成電路,除高純原材料、高純氣體、高純化學藥品要求外,高純水也是控制芯片質量的關鍵因素之一。
    高純水是將普通的市政用水處理成對不同離子的含量和顆粒度都有很高要求的超純水。在半導體制作過程中,50%以上的工序中硅片與超純水直接接觸,80%以上的工序需要進行化學處理,而化學處理又與超純水有關。如果水中的雜質進入硅片,就會導致半導體器件性能,從而影響產品質量。因此,制備和使用高品質的超純水已成為發展大規模集成電路的重要前提技術。
    眾所周知,超純水管道系統在使用過程中,由于離子的聚集和雜質的粘著會對管道造成污染,從而影響硅片的質量。因此,半導體企業需要定期對超純水管道進行清洗和消毒,以使水質達到工藝使用要求。但由于半導體企業生產任務緊以及專業方向的差異,企業自身很難投入精力進行超純水管道的清洗和維護工作。目前各企業普遍采用“技術外包”的方式對超純水管道進行清洗和保養處理。
    基于上述現狀,陜西博泰達技術人員經過相關半導體生產企業和水質處理企業的現狀的現場實踐合同行業的經驗,研究出一套專業針對半導體企業用超純水管道清洗方案。
            
            

    一、 成果的主要內容
    采用化學清洗法對半導體企業用超純水管道進行處理,使其達到工業生產需求。
    (1)水力清洗
      用大量的水盡可能沖掉系統中的灰塵、泥沙。為了達到好的沖洗效果,需注意沖洗方式和水速的控制;
    (2)藥液循環清洗
       選擇合適的化學藥液清洗純水管道,其目的是殺死管道內附著的微生物及生物粘泥;
    (3)水力循環沖洗
    反滲透處理水反復沖洗超純水管道,其目的是沖洗掉管內殘留的化學藥液;
    (4)采樣檢查
       水力循環沖洗后采集水樣,用化學分析方法檢測水中是否含有殘留藥液及水質是否達標;
    (5)復位檢查
        采樣檢查符合水質要求后,即可將系統復位至正常狀態,以備交付使用。
       “半導體企業用超純水管道清洗方案”項目不斷的論證、試驗、實施和改進,取得了一定的成效。該項目的實施有利于降低企業對生產成本的投入和產品的出廠價格,在一定程度上提高了產品的競爭力。

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